镀膜的原理是高能离子或原子轰击某金属靶，并把自己的动量转给靶中的原子，后者得到足够的能量时就有可能脱离与相邻原子的结合，由靶中逸出。这些被释放出的原子(或原子团)沉积在样品表面形成了一连续的导电覆盖层。通常溅射过程是伴随辉光放电而产生。辉光放电是一种气体放电。如果一个容器中有两个电极，极间充有悄性气体，将这两电极间加直流电压(1---3k V)，在某种外来因素(如阴极表面受短波辐波等)作用下，使阴极产生电子并飞向阳极。在电子向阳极运动时，不断和气体分子碰撞而产生正离子和自由电子，正离子在电场作用下向阴极运动时也不断和气体分子碰撞又产生电子和正离子。当极间的离子与电子足够多时，电流突然增大，电压值下降，这相当于电极间电阻变小，空气成了导体。当大量正离子轰击阴极表面时，将足够的能量交给金属阴极的某些原子(或原子团)，后者便脱离表面向外“飞出”。这些“飞出”的原子或原子团在与残余气体分子反复撞击后，便由四面八方附着在样品表面.如果它们还有足够多的能量，光学显微镜则到达待搜盖样品的表面时有可能射入1-2个原子层的深度。

   金属原子在样品表面的沉积速度与许多因素有关.首先，轰击金属阴极靶的气体离子能量增加时溅射出的金属原子能量也增大。其次，容器中的气体压强增大或放电电流密度增高时，气体正离子数量和密度也增大。第三，样品与金属靶的距离越近，沉积速度越大，但过度接近会使样品受热，一方面损伤标本，同时气体中的杂质也影响沉积速度。